1、等离子体灰化的几个必要条件:1、等离子体发生器的选择:等离子体清洗设备的发生器必须在射频波段以上，如何提高AR膜层附着力即13.56mhz或2.45ghz2、等离子体机清洗时间设置:3、等离子体灰化工艺参数:灰化工艺控制应稳定，如:空腔压力参数、等离子体功率参数、进氧参数和灰化工艺时间参数，这些参数起着至关重要的作用。

ICP的特点是结构简单，如何提高AR膜层附着力在反应腔室内不安置电极，其使用的射频电源一般为0.5MHz的低频电源或13.5MHz的中频电源，这样产生的等离子体密度较高，因而具有较高的的化学活性，被广泛应用于半导体工艺生产中。

NiO / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3> Re2Q7 / Y-Al2O3> TiO2 / 7-Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 / Y-Al2O3 ≈ FeO3 / Y-Al2O3> Co2O2 / Y-Al2O3。

研究低温等离子表面处理设备与物体表面的相互作用。等离子表面处理设备的作用：除气体、离子和电子的分子结构外，如何提高AR膜层附着力等离子表面处理设备还含有电中性原子。被能量激发。也有人说，原子团（和氧自由基）的波长和能量以及等离子体发出的光在等离子体表面起着重要作用。原子团与物体表面的反应。由于等离子表面处理所含的氧自由基比离子多，氧自由基在等离子表面处理中起着重要作用，氧自由基的作用主要是化学变化中的能量转移。

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这样当给电极两端施加足够高的交流电压，电极之间气体即使在大气压下也能够被高压击穿，形成所谓的DBD放电。这种等离子清洗仪放电与辉光放电相似，表现得很均匀、散漫和稳定，其实际上是由许多细小的快脉冲放电通道构成的。通常放电气体的压强可达到1 atm (1 atm = 1.013X 10^5 Pa)，因此DBD放电属于高气压下的非热平衡放电，又被称为无声放电。

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